HF-HiPIMS
TE-HP502U-HF（ユニポーラタイプ）
TE-HP502B-HF（バイポーラタイプ）

低いデューティ比（短いon時間の比率）で集中させた高い電力を瞬間的にカソードに投入することで、高密度のプラズマを形成するHiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）。本モデルは最高のHiPIMSを実現させるためのパルス電源です。

製品の特長と利点

高周波モードであるHF-HiPIMSを採用
- HF-HiPIMSとは、従来のHiPIMSと違った弊社独自のPre、Main、High Frequencyの異なる3つのパルスを組み合わせることでターゲット上のチャージアップを中和させ、極力までアーク異常放電を抑制する機能。（パルス電源装置／特許第6467075号）アフターグローによりパルス幅を広げることで成膜レートの大幅な向上に寄与します。
2モデルをラインナップ
- ノーマルタイプのユニポーラタイプと、波形を正負に出力することによりアーク異常放電を更に低減させるタイプのバイポーラタイプの2モデルをラインナップしています。