弊社 HiPIMS電源が第21回プラズマ材料科学賞（技術部門賞）を受賞

弊社東京電子は、岡山理科大学技術科学研究所と共同でこのほど「高機能膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発」の業績に対し、日本学術振興会プラズマ材料科学第１５３委員会が選定をおこなう 「第21回プラズマ材料科学賞」 の技術部門賞を受賞いたしました。

■高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering、大電力パルスマグネトロンスパッタ)は低いDuty比で高い電力を瞬間的にカソードに投入し高密度のプラズマを形成する手法であり、高性能な機能性薄膜を作製するには極めて有効な手段で、自動車部品用、機械工具用のハードコーティング等では製品化が進んでいます。
またセンサーデバイス用の反射防止膜、電子デバイス用のバリア膜等、多様なアプリケーションでの応用が期待されています。弊社では成膜中の膜品質を低下させるアーク異常放電、生産性を損なう低い成膜レートなどの実際に起こる問題を克服し、さらなる性能向上させたHF-HiPIMSを開発し、その業績を評価されました。

※本件に関する技術資料が必要な方はsales@toel.co.jpまでご請求下さい。

＜関連情報＞
・プラズマ材料科学賞について
　　http://www.plasma153.org/awards/index.html　
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