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HiPIMS用パルス電源

HiPIMS用パルス電源

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)とは、スパッタリングの一種で、低いduty比で集中させた高い電力を、瞬間的にカソードに投入することで高密度のプラズマを形成する手法です。この方法による成膜は、表面の平滑性が良い、緻密な膜ができる等、様々な利点がございます。現在当社では、このHiPIMS用パルス電源の開発に取り組んでおります。ご興味のあるお客様は、こちらからお問い合わせ下さい。

◆HiPIMS波形イメージ◆

HiPIMS_image

 

製品仕様

製品名 HiPIMS用パルス電源
DC電源部  ●入力:3相 200V±10%●出力:DC 1000V/50A(平均)、1000A(max)/50kW●制御:CV(定電圧)

●可変範囲:0~1000V

負バイアスユニット  ●出力:DC -200V/-15A(平均)、-300A(max)/3kW●制御:CV(定電圧)
●可変範囲:0~200V
パルスユニット部  ●入力:DC -1000V(max)/200V(max)●パルス出力 電圧(波高値):-1000V(max)/200V(max)、電流(波高値):1000Ap(max)(Duty=5%)、周波数:500Hz~5kHz、Duty:3~90%
制御ユニット  ●設定機能:DC電源出力電圧設定、パルス幅及び周波数設定(パネル操作又はコネクタより)

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