» 第11回岩木賞 奨励賞を受賞

第11回岩木賞 奨励賞を受賞

第11回岩木賞 奨励賞を受賞

高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発

弊社東京電子、岡山理科大学技術科学研究所と共同でこのほど 「高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発」の業績に対し、トライボコーティング技術研究会、

未来生産システム学協会 (NPS) などからなる岩木賞審査委員会が選定をおこなう 「第 11回岩木トライボコーティングネットワークアワード ( 岩木賞 )」 の奨励賞を受賞いたしました。

■高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering大電力パルスマグネトロンスパッタ)は低いDuty比で高い電力を瞬間的にカソードに投入し高密度のプラズマを形成する手法であり、高性能な機能性薄膜を作製するには極めて有効な手段で、自動車部品用、機械工具用のハードコーティング等では製品化が進んでいます。

またセンサーデバイス用の反射防止膜、電子デバイス用のバリア膜等、多様なアプリケーションでの応用が期待されています。弊社では成膜中の膜品質を低下させるアーク異常放電、生産性を損なう低い成膜レートなどの実際に起こる問題を克服し、さらなる性能向上させたHF-HiPIMSを開発し、その業績を評価されました。

※本件に関する技術資料が必要な方はsales@toel.co.jpまでご請求下さい。

<関連情報>

・岩木賞について

   https://sites.google.com/site/npstwebsite/biao-zhang-xian-zhang/di4hui-yan-mu-shang-mu-ji

Mechanical –Tech.jp ニュース

     http://surface.mechanical-tech.jp/node/3423

 本件に関するお問い合わせ

  東京電子株式会社   

  〒185-0012 東京都国分寺市本町2-22-7

  TEL 042-329-5090 E-mail sales@toel.co.jp

  URL http://www.toel.co.jp/

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